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日本orc半导体光刻机

  • 产品型号:PPS-8200p1/8300p1
  • 更新时间:2024-08-24

简要描述:日本orc半导体光刻机 PPS-8200p1/8300p1
用途:支持各种应用
特长
-宽频谱光刻 (与菜单连动的 ghi线 gh线, i线的自动切换)
-搭载可变NA功能 (可变为0.16和0.1)
-最多8Field的拼接设计格式
-光学系统不受感光材挥发气体和周围环境中化学物质影响

产品详情
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日本orc半导体光刻机 PPS-8200p1/8300p1

用途:支持各种应用

特长

-宽频谱光刻 (与菜单连动的 ghi线 gh线, i线的自动切换)

-搭载可变NA功能 (可变为0.16和0.1)

-最多8Field的拼接设计格式

-光学系统不受感光材挥发气体和周围环境中化学物质影响

制品规格


型式
PPS-8200p1/8300p1
wafer尺寸  6/8/12 英寸
NA(开口数)0.16、0.1可变
缩小比1:1
Field尺寸52mm × 33mm
光刻波长ghi-Line gh-line i-line(与菜单连动)
视野尺寸6inch
重复对位精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
装置尺寸/重量

(W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg



日本orc半导体光刻机 PPS-8200p1/8300p1

用途:支持各种应用

特长

-宽频谱光刻 (与菜单连动的 ghi线 gh线, i线的自动切换)

-搭载可变NA功能 (可变为0.16和0.1)

-最多8Field的拼接设计格式

-光学系统不受感光材挥发气体和周围环境中化学物质影响

制品规格

型式
PPS-8200p1/8300p1
wafer尺寸  6/8/12 英寸
NA(开口数)0.16、0.1可变
缩小比1:1
Field尺寸52mm × 33mm
光刻波长ghi-Line gh-line i-line(与菜单连动)
视野尺寸6inch
重复对位精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
装置尺寸/重量

(W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg


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