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产品分类简要描述:日本horiba光纤型高温磷酸浓度计 CS-620F在 3D NAND 制程中,沉积几十层二氧化硅和氮化硅,并使用高温磷酸选择性地刻蚀氮化硅层。在该制程中,通过控制化学药液的浓度和温度,可以获得期望的刻蚀速率。成熟型号很难测量高温化学药液,但 CS-620F 能够在高达 170℃ 的高温下进行测量。使用吸收光谱进行连续测量,与其他方法相比,需要的维护和耗材更少。
品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 进口 |
---|---|---|---|
应用领域 | 环保,化工,能源,电子,综合 |
日本horiba光纤型高温磷酸浓度计 CS-620F
在 3D NAND 制程中,沉积几十层二氧化硅和氮化硅,并使用高温磷酸选择性地刻蚀氮化硅层。在该制程中,通过控制化学药液的浓度和温度,可以获得期望的刻蚀速率。成熟型号很难测量高温化学药液,但 CS-620F 能够在高达 170℃ 的高温下进行测量。使用吸收光谱进行连续测量,与其他方法相比,需要的维护和耗材更少。
主要特征:
可测量高达 92% 的高浓度磷酸
无需冷却机制和冷却时间。
无需冷却循环管路中的高温磷酸(140 至 170℃),可直接测量。
样品使用PFA接触,以降低污染风险。
采用每半年一次的背景校正周期,有助于显著减少机台停机时间。
每3秒更新一次测量数据,有助于更快速使用浓度反馈进行控制
日本horiba光纤型高温磷酸浓度计 CS-620F
在 3D NAND 制程中,沉积几十层二氧化硅和氮化硅,并使用高温磷酸选择性地刻蚀氮化硅层。在该制程中,通过控制化学药液的浓度和温度,可以获得期望的刻蚀速率。成熟型号很难测量高温化学药液,但 CS-620F 能够在高达 170℃ 的高温下进行测量。使用吸收光谱进行连续测量,与其他方法相比,需要的维护和耗材更少。
主要特征:
可测量高达 92% 的高浓度磷酸
无需冷却机制和冷却时间。
无需冷却循环管路中的高温磷酸(140 至 170℃),可直接测量。
样品使用PFA接触,以降低污染风险。
采用每半年一次的背景校正周期,有助于显著减少机台停机时间。
每3秒更新一次测量数据,有助于更快速使用浓度反馈进行控制