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更新时间：2024-09-05 
浏览次数：115用于气相分解的VPDBOX的技术参数
VPD BOX特点
●该设备利用氢氟酸自然汽化，在气相状态下分解硅片上的氧化膜和氮化膜，使硅片表面疏水化。
●与酸性液体、酸性气氛接触的部件采用PTFE、PVDF。
●请与半自动收集装置SC系列配合使用。
规格参数
| 装置名 | VPDBOX-200-1M | VPDBOX-300-1M |
| 最大处理张数 | 1 件 | 1 件 |
| 外形(W×D×H)(mm)(※1) | 290×290×250 | 390×390×250 |
| 重量 | 6公斤 | 8公斤 |
| 使用场所 | 干净的草案里面 | 干净的草案里面 |
| 外部资源 | N2气（用于酸性气氛吹扫） | N2气（用于酸性气氛吹扫） |
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