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更新时间：2023-08-21 
浏览次数：300用途：
支持多种应用程序
支持WL-CSP、IGBT、CIS等的光刻6/8/12英寸。
特长：
宽带曝光（与配方联动的自动切换ghi线gh线，i线）。
搭载可变NA功能（0.16和0.1的可变）。
最多8个字段的条形图设计格式。
由抗蚀气体和周边环境化学保护的光学系统。
规格：
| 型式 | PPS-8200/8300 |
|---|---|
| ウェーハサイズ | 6/8/12インチ |
| 解像力 | 2.0 µmL/S(2.0 µm レジスト厚) |
| NA（开口数） | 0.16、0.1可変 |
| 缩小比 | 1:1 |
| Fieldサイズ | 52mm × 33mm |
| 露光波长 | ghi-Line gh-line i-line(レシピ连动) |
| レチクルサイズ | 6inch |
| 重ね合せ精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 装置サイズ／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
| 主要オプション | バックサイドアライメントシステム ウェーハ周辺露光システム ウェーハ周辺非露光システム 薄ウェーハ搬送システム GEM通信対応 インライン対応 |
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